●ITRS與光刻技術(shù)發(fā)展
《今日材料》（MaterialsToday）是Elsevier出版集團(tuán)旗下的材料科學(xué)評論期刊，是一份在材料學(xué)業(yè)界享有盛名的出版物。《今日材料》在2008年評選出材料科學(xué)領(lǐng)域在過去50年間的十大進(jìn)展。其中一些科研發(fā)現(xiàn)改變了該領(lǐng)域的研究方向，另外一些則為材料科學(xué)領(lǐng)域提供了新的機(jī)會和研究方向。
令人驚訝的是，排在首位的并不是某項(xiàng)具體的研究成果，而是一種優(yōu)先選擇研究方向和制定研發(fā)計劃的方式——ITRS?！秶H半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖》（ITRS）通過設(shè)定創(chuàng)新和技術(shù)需求的目標(biāo)推動了微電子行業(yè)的巨大進(jìn)展。ITRS融合了科學(xué)、技術(shù)和經(jīng)濟(jì)學(xué)，很難想象在材料學(xué)領(lǐng)域還有什么能超越它對這個領(lǐng)域進(jìn)展所起的推動作用。
ITRS全稱為International Technology Roadmap forSemiconductors，中文譯名為國際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖。
ITRS是由歐洲、日本、韓國、臺灣、美國五個主要的芯片制造地區(qū)發(fā)起的。
發(fā)起組織分別是：
EuropeanSemiconductor Industry Association （ESIA，歐洲半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會）；
the JapanElectronics and Information Technology Industries Association（JEITA，日本電子與信息技術(shù)工業(yè)協(xié)會）；
the KoreanSemiconductor Industry Association （KSIA，韓國半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會）；
the TaiwanSemiconductor Industry Association （TSIA,臺灣半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會）；
the UnitedStates Semiconductor Industry Association（SIA，美國半導(dǎo)體工業(yè)聯(lián)盟）。
ITRS的目的是確保集成電路（IC）和使用IC的產(chǎn)品在成本效益基礎(chǔ)上的性能改進(jìn)，從而持續(xù)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的健康和成功。
ITRS每年會組織會議對半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展方向進(jìn)行討論，通過全球芯片制造商、設(shè)備供應(yīng)商、研究團(tuán)體和consortia的協(xié)作努力，ITRS團(tuán)隊(duì)識別關(guān)鍵的挑戰(zhàn)，鼓勵創(chuàng)新解決方案，并歡迎來自半導(dǎo)體團(tuán)體的分享。而最為重要的則是每年在會后發(fā)布的ROADMAP（線路圖），ITRS在業(yè)內(nèi)發(fā)布的ROADMAP具有半導(dǎo)體行業(yè)最高權(quán)威性。
半導(dǎo)體光刻工藝40年發(fā)展歷程與預(yù)測
上圖為依據(jù)ITRS報告制作的半導(dǎo)體光刻回顧與展望路線圖，從圖中我們可以看到EVU技術(shù)雖然進(jìn)展坎坷商業(yè)化困難重重，但是這項(xiàng)技術(shù)前景仍然看好。但是目前最為實(shí)際的情況是193nm光刻技術(shù)借助于沉浸式技術(shù)，已經(jīng)能夠延續(xù)到11nm工藝，這為今后幾年的半導(dǎo)體器件蝕刻提供了穩(wěn)定的技術(shù)支撐。