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【兆恒機(jī)械】半導(dǎo)體知識(shí):集成電路是怎么制造出來(lái)的?

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  • 添加日期:2020年08月07日

什么是半導(dǎo)體?

半導(dǎo)體是導(dǎo)電性介于導(dǎo)體(金屬)與絕緣體(陶瓷、石頭)之間的物質(zhì),包括硅、鍺。
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利用半導(dǎo)體制作電子組件的目的在于:不像導(dǎo)體絕對(duì)導(dǎo)電、絕緣體完全不導(dǎo)電;藉由注入雜質(zhì),可以精準(zhǔn)地調(diào)整半導(dǎo)體的導(dǎo)電性。由于硅擁有較大的能隙、可以有較大雜質(zhì)摻雜范圍,所以可以被利用來(lái)制作重要的半導(dǎo)體電子組件晶體管 (Transistor)。

由于發(fā)明了晶體管,這個(gè)年代成為人類(lèi)科技文明進(jìn)步最快的年代,電子技術(shù)與計(jì)算機(jī)工業(yè)才開(kāi)始了長(zhǎng)足的發(fā)展,堪稱(chēng)二十世紀(jì)最偉大的發(fā)明之一。

發(fā)明晶體管的蕭克利 (Shockley)、巴丁 (Bardeen) 與布拉頓 (Brattain) 三位物理學(xué)家在1956年共同榮獲諾貝爾獎(jiǎng)。

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1956年,蕭克利在舊金山南方成立蕭克利半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室 (Shockley Semiconductor Lab),帶動(dòng)美國(guó)硅谷 (Silicon Valley) 的蓬勃發(fā)展,硅谷一名稱(chēng)系由半導(dǎo)體原料硅而來(lái)。

講到硅谷的發(fā)展成因與歷史,絕對(duì)不能不提蕭克利半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室的影響。一個(gè)天才的創(chuàng)業(yè)會(huì)引來(lái)眾多天才的投奔,因此當(dāng)時(shí)一堆優(yōu)秀人才趨之若鶩地跑到蕭克利的實(shí)驗(yàn)室來(lái);但后來(lái)因蕭克利暴躁又疑神疑鬼的性格,又紛紛辭職離去,被蕭克利怒稱(chēng)為「八叛徒」(The Traitorous Eight)。

八位叛徒中,包括了諾伊斯 (Noyce)、摩爾 (Moore,就是摩爾定律的那個(gè)摩爾!) 等人,他們隨后成立了快捷半導(dǎo)體 (Fairchild Semiconductor),成為了第一家將硅晶體管商業(yè)化的公司。

這家公司最重要不是它的產(chǎn)品、而是影響力——快捷可說(shuō)是硅谷人才的搖籃,創(chuàng)始人和員工出來(lái)開(kāi)的公司和投資的公司在灣區(qū)超過(guò) 130家上市企業(yè),里面包括了 Intel、AMD 等公司,市值達(dá) 21 萬(wàn)億美元。對(duì)硅谷乃至當(dāng)今時(shí)代的科技發(fā)展都有著不可或缺的影響和作用。

好啦此為后話不提,讓我們回來(lái)看看硅谷發(fā)展一切的源頭——晶體管到底是什么。

晶體管的主要功能有兩個(gè):「放大信號(hào)」與「開(kāi)關(guān)」。

晶體管就像是數(shù)字信號(hào)的「收音機(jī)」──收音機(jī)的原理是將微弱的信號(hào)放大、用喇叭發(fā)聲出來(lái),晶體管能將信號(hào)的電流放大;而數(shù)字信號(hào)是由0與1組成,1代表著電流「開(kāi)」、0代表著電流「關(guān)」,晶體管以每秒超過(guò) 1千億次的開(kāi)關(guān)來(lái)運(yùn)作,讓電流以特定方式通過(guò)。

這邊讓我們來(lái)簡(jiǎn)單談?wù)劸w管的運(yùn)作原理。

晶體管由硅組成,而硅是 4 顆電子。在硅半導(dǎo)體中加入元素磷,具有 5 顆電子、比硅多一顆電子(-)變成 N 型晶體管 (Negative)。

另外加入元素硼,具有 3 顆電子、 比硅少一顆電子(-)變成 P 型晶體管 (Positive) 。晶體管兩端可以通電,稱(chēng)為「源極」和「汲極」。

由于P型和N型分別多了電子和少了電子,所以晶體管在 N 型和 P 型接起來(lái)的狀態(tài)下電子不會(huì)流通,此時(shí)電流開(kāi)關(guān)為「關(guān)」。

為了達(dá)到開(kāi)關(guān)的效果,我們使用第三個(gè)電極「閘極」(Gate) 取代機(jī)械按鈕開(kāi)關(guān);閘極間以氧化層和半導(dǎo)體隔絕。若我們?cè)陂l極上方施以正電電壓,讓 N 型多出來(lái)的電子能夠重新流通、并從源極流到汲極,此時(shí)電流開(kāi)關(guān)為「開(kāi)」。

上述即為半導(dǎo)體組件晶體管如何藉由加入雜質(zhì)(磷、硼)來(lái)控制導(dǎo)電性、進(jìn)而控制電流開(kāi)關(guān)的原理。

但是這數(shù)億個(gè)晶體管在哪里呢?你可能正在心想:「我手機(jī)有大到能放進(jìn)數(shù)億個(gè)晶體管?」

答案是:晶體管是納米等級(jí),比人體細(xì)胞還要小。三星以及臺(tái)積電在先進(jìn)半導(dǎo)體制程的 14 納米與 16 納米之爭(zhēng),14 納米指的就是晶體管電流通道的寬度。寬度越窄、耗電量越低;然而原子的大小約為 0.1 納米,14 納米的通道僅能供一百多顆原子通過(guò)。故制作過(guò)程中只要有一顆原子缺陷、或者出現(xiàn)一絲雜質(zhì),就會(huì)影響產(chǎn)品的良率。

對(duì)于半導(dǎo)體大廠而言,制程是技術(shù),但良率才是其中的關(guān)鍵Know-how。一般能將良率維持在八成左右已經(jīng)是非常困難的事情了,臺(tái)積電與聯(lián)電的制程良率可以達(dá)到九成五以上,可見(jiàn)臺(tái)灣晶圓代工的技術(shù)水平。

事實(shí)上,這數(shù)億個(gè)晶體管,全部都塞在一個(gè)長(zhǎng)寬約半公分、指甲大小的芯片上。這片芯片包含晶體管等電子組件,就叫做「集成電路」(Integrated Circuit, IC),俗稱(chēng)IC。

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所謂的大規(guī)模集成電路 (LSI, Large Scale Integration) 代表的不是這個(gè)電路板很大,而是上面約一萬(wàn)個(gè)晶體管;超大規(guī)模集成電路 (VLSI, Very Large Scale Integration) 則約有十萬(wàn)個(gè)晶體管。

集成電路是怎么制作出來(lái)的呢?

在集成電路出現(xiàn)之前,工業(yè)界必須各自生產(chǎn)晶體管、二極管、電阻、電容等電子組件,再把所有組件連接起來(lái)做成電路,不但復(fù)雜又耗時(shí)費(fèi)工。故若能直接依照設(shè)計(jì)圖做出一整個(gè)電路板,將能更加精確、速度更快且成本更低。

德州儀器公司的基爾比 (Jack St. Clair Kilby) 是第一個(gè)想到要把組件放到芯片上集體化的發(fā)明人,在1958年他試驗(yàn)成功,開(kāi)辟了一個(gè)嶄新的計(jì)算機(jī)技術(shù)時(shí)代,甚至很多學(xué)者認(rèn)為由集成電路所帶來(lái)的數(shù)字革命是人類(lèi)歷史中最重要的事件?;鶢柋纫惨虼擞?000年獲得諾貝爾物理獎(jiǎng)。

集成電路的制作過(guò)程分為以下步驟。

一. 建筑設(shè)計(jì): IC設(shè)計(jì) (Circuit Design)

如同在蓋房子之前,建筑設(shè)計(jì)師必須畫(huà)出設(shè)計(jì)圖,規(guī)劃房間分布、使用材料;在制作半導(dǎo)體芯片時(shí),工程師會(huì)畫(huà)出電路圖 (Circuit Diagram),規(guī)劃一個(gè)芯片上應(yīng)該要具備的功能 (包括算術(shù)邏輯、記憶功能、 浮點(diǎn)運(yùn)算、 數(shù)據(jù)傳輸)、各個(gè)功能分布在芯片上的區(qū)域,與制作所需的電子組件。

接下來(lái),工程師會(huì)使用硬件描述語(yǔ)言 (HDL) 將電路圖描寫(xiě)出來(lái)。


待確認(rèn)無(wú)誤后再將 HDL 程序代碼放入電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具 (EDA tool),讓計(jì)算機(jī)將程序代碼轉(zhuǎn)換成電路圖。

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二. 建筑地基: 晶圓制造 (Wafer Foundry)

設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)完房子后,就需要將電路設(shè)計(jì)圖交由建筑工人將房子蓋出來(lái)。蓋房子需要地基,制作芯片也要,安置所有電子組件的基板就是「晶圓」(Wafer)。

首先,晶圓制造廠會(huì)將硅純化、溶解成液態(tài),再?gòu)闹欣鲋鶢畹墓杈е?,上面有一格一格的硅晶格,后續(xù)可供晶體管安置上去。

也由于硅晶格的排列是安裝電子組件的關(guān)鍵,「拉晶」的步驟非常重要──晶柱的制作過(guò)程就像是在做棉花糖一樣,一邊旋轉(zhuǎn)一邊成型,旋轉(zhuǎn)拉起的速度以及溫度的控制都會(huì)影響到晶柱的質(zhì)量。

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接下來(lái),晶圓廠會(huì)用鉆石刀像切火腿一般,將一整條的晶柱切成一片片的薄片,再經(jīng)過(guò)拋光后,就變成了「晶圓」(Wafer),也就是芯片的基板;晶圓上面的晶格可供晶體管置入。

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晶圓(Wafer)上面的晶格可供晶體管置入。

常聽(tīng)到的8吋、12吋晶圓廠,代表的就是硅晶柱切成薄片后的晶圓直徑,而整塊晶圓可以再被切成一片片的裸晶 (Die);裸晶經(jīng)過(guò)封裝后,才被稱(chēng)為芯片 (Chip)、或稱(chēng) IC。

晶圓的尺寸,可以決定后續(xù)裁切制作出來(lái)的芯片有多少數(shù)量。

附注: AnySillicon網(wǎng)站上提供的計(jì)算器(Die Per Wafer Calculator)可供計(jì)算一塊晶圓上能切出多少裸晶。

如直徑8吋的晶圓片使用2.0微米的制程,可以切出588顆64M的DRAM (內(nèi)存);至于12吋的晶圓,可以切出的成品又更多。

然而如先前所述,硅純度、拉晶速度與溫度控制都是晶柱質(zhì)量的關(guān)鍵,越粗的硅晶柱越難拉出好質(zhì)量,故尺寸越大、技術(shù)難度就越高,12吋晶圓廠也就比8吋晶圓廠的制程更先進(jìn)。

另外,雜質(zhì)對(duì)這些完美無(wú)缺的硅晶格構(gòu)成很大的威脅(想想看:晶體管比人體細(xì)胞還小,稍有一絲雜質(zhì)變足以毀壞整個(gè)硅晶格了),因此制造人員進(jìn)入無(wú)塵室前,都必須事先清洗身體、穿戴防塵衣、全副武裝采取預(yù)防措施。晶圓制造環(huán)境更比手術(shù)室干凈十萬(wàn)倍。


晶圓會(huì)在無(wú)塵的狀態(tài)下送到無(wú)塵室并分裝到密封的容器中,進(jìn)行隨后的生產(chǎn)步驟。

三. 建筑成形: 光罩制作 (光蝕刻與微影成像)

我們?cè)谙惹疤岬?,集成電?(IC) 跨時(shí)代的意義在于,工業(yè)界不用各自生產(chǎn)電子件再組建起來(lái),可以一口氣將電路板依據(jù)電路圖生產(chǎn)出來(lái)。這是怎么做到的呢?

答案是:光學(xué)攝影技術(shù)。一大張的電路設(shè)計(jì)圖,要縮小并壓印到硅晶圓(基板),靠的就是光學(xué)原理。

首先光罩廠會(huì)將IC設(shè)計(jì)圖形第一次縮小,以電子束刻在石英片上,成為光罩。

image.png光罩

由于電子束的寬度是1微米,所以光罩上依據(jù)設(shè)計(jì)圖所刻出的半導(dǎo)體回路也是1微米寬。接下來(lái)光罩廠會(huì)將完成的光罩送進(jìn)晶圓廠。

芯片制造,也就是將光罩上刻的設(shè)計(jì)圖、第二度縮小至晶圓上。與底片洗出相片的原理一樣,「光罩」就是照相底片、「晶圓」就是相片紙。

晶圓上面會(huì)事先涂上一層光阻 (相片感光材料),透過(guò)紫外光的照射與凸透鏡聚光效果、會(huì)將光罩上的電路結(jié)構(gòu)縮小并烙印在晶圓上,最后印在晶圓上的半導(dǎo)體回路會(huì)從光罩的 1 微米、變?yōu)?0.1 微米。陰影以外的部分會(huì)被紫外光破壞,隨后能被沖洗液洗掉。

藉由光蝕刻與微影成像,晶圓廠成功將設(shè)計(jì)圖轉(zhuǎn)印到微小的晶圓基板上。如同底片質(zhì)量會(huì)影響照片成像的好壞,光罩上圖形的細(xì)致度是芯片質(zhì)量的關(guān)鍵。

光刻制程結(jié)束后,工程師會(huì)在晶圓上繼續(xù)加入離子。透過(guò)注入雜質(zhì)到硅的結(jié)構(gòu)中控制導(dǎo)電性,與一連串的物理過(guò)程,制造出晶體管。其過(guò)程相當(dāng)復(fù)雜,甚至需要像兩個(gè)足球場(chǎng)大的無(wú)塵室。

待晶圓上的晶體管、二極管等電子組件制作完成后,工程師會(huì)將銅倒入溝槽中形成精細(xì)的接線,將許多晶體管連結(jié)起來(lái)。在指甲大的空間里,數(shù)公里長(zhǎng)的導(dǎo)線連接了數(shù)億個(gè)晶體管,制作成大規(guī)模集成電路。至此,偉大的建筑就完成了。

四. 成品包裝: 封裝與測(cè)試

晶圓完成后被送到封裝廠,會(huì)切割成一片片的「裸晶」,如先前圖所示。由于裸晶小而薄、非常容易刮傷,故封裝廠會(huì)將裸晶安裝在導(dǎo)線架上、在外面封裝上絕緣的塑料體或陶瓷外殼,剪下來(lái)印上委托制造公司的標(biāo)志。最后進(jìn)行測(cè)試,進(jìn)行芯片結(jié)構(gòu)及功能的確認(rèn)、將不良品挑出,一顆芯片就大功告成了!

半導(dǎo)體大廠有哪些?

1960年代集成電路的發(fā)明,讓許多的半導(dǎo)體組件可以一次放在一塊芯片上。隨著半導(dǎo)體的縮小,IC上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔兩年便會(huì)增加一倍、性能每18個(gè)月能提升一倍 。

從1960年代不到10個(gè),1980年代增加到10萬(wàn)個(gè)、1990年代增加到1000萬(wàn)個(gè)。這個(gè)現(xiàn)象由英特爾的名譽(yù)董事長(zhǎng)摩爾所提出,稱(chēng)為摩爾定律 (Moore’s Law)。如今,集成電路上的組件高達(dá)數(shù)億至數(shù)十億個(gè)。


早期,半導(dǎo)體公司多是從IC設(shè)計(jì)、制造、封裝、測(cè)試到銷(xiāo)售都一手包辦的整合組件制造商(Integrated Device Manufacturer, 俗稱(chēng)IDM),如英特爾 (Intel)、德州儀器 (TI)、摩托羅拉(Motorola)、三星 (Samsung)、菲利普 (Philips)、東芝 (Toshiba),以及國(guó)內(nèi)的華邦、旺宏。

然而,由于摩爾定律的關(guān)系,半導(dǎo)體芯片的設(shè)計(jì)和制作越來(lái)越復(fù)雜、花費(fèi)越來(lái)越高,單獨(dú)一家半導(dǎo)體公司往往無(wú)法負(fù)擔(dān)從上游到下游的高額研發(fā)與制作費(fèi)用,因此到了1980年代末期,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)逐漸走向?qū)I(yè)分工的模式──有些公司專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)、再交由其他公司做晶圓代工和封裝測(cè)試。


半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在近數(shù)十年來(lái)的發(fā)展速度不只驚人,許多重大的創(chuàng)新也支持了眾多其他產(chǎn)業(yè)也、產(chǎn)生了極大的影響,可以說(shuō)是數(shù)字時(shí)代之母。毫無(wú)疑問(wèn)地,在未來(lái),半導(dǎo)體的應(yīng)用與產(chǎn)業(yè)規(guī)模,將會(huì)比今日來(lái)的更加廣泛且舉足輕重。