10月4號，據(jù)外媒消息稱，佳能公司將斥資超過500億日元（約3.5億美元）在日本中部栃木縣建設工廠，以擴大其現(xiàn)有的芯片制造光刻機的生產(chǎn)，目標將當前半導體設備產(chǎn)能提高
一倍。資料顯示，在2021年的全球光刻機市場，荷蘭ASML獨占了79.4%的市場份額，尼康與佳能分別占據(jù)10.4%和10.2%的市場份額。目前佳能在日本擁有兩家半導體設備工廠，此次新建新的光刻機設備工廠則是佳能近21年來的首次。
新的半導體設備工廠將于2023年開始建設，該工廠將于2025年開始運營，佳能發(fā)言人小林弘樹周三通過電話告訴彭博新聞社。小林說，該公司還可能利用該設施生產(chǎn)下一代芯片制造設備-圍繞一種稱為納米壓印技術的技術-但由于該技術仍在開發(fā)中，因此尚未做出最終決定。
光刻機是芯片制造過程中的關鍵設備。華盛頓已經(jīng)確保中國無法從行業(yè)領導者ASML Holding NV獲得最先進的光刻技術，并且正在加緊努力，進一步限制中國獲得更成熟的光刻設備。
根據(jù)此前的資料顯示，相較于目前已商用化的EUV光刻技術，NIL 技術可大幅減少耗能，并降低設備成本。原因在于NIL 技術較為簡單，耗電量可壓低至EUV 技術的10%，并讓設備投資降低至僅有EUV 設備的40%。不過，雖然NIL 技術有許多的優(yōu)點，但現(xiàn)階段在導入量產(chǎn)上仍有不少問題有待解決，其中包括壓印頭的耐用性問題、易因空氣中的細微塵埃的影響而形成瑕疵等問題。
總部位于東京的佳能在芯片制造設備供應方面落后于同胞尼康公司和荷蘭的ASML，其產(chǎn)品用于在成熟的生產(chǎn)節(jié)點上制造不太先進的半導體。據(jù)中國創(chuàng)始證券（Securities）稱，佳能的光刻機只能制造出130納米的芯片，這項技術在20多年前首次出現(xiàn)。
佳能建造一個全新的工廠的舉動標志著對舊芯片技術的持續(xù)需求的預期。
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